300c有机无机联合蒸发镀膜机-沈阳鹏程真空技术

多源有机无机蒸发系统

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主要用途：

用于纳米级单层及多层金属膜、 半导体膜等新材料的制备。广泛应用 于大专院校的薄膜材料科研。

系统组成:

由真空室、蒸发源、样品台、 真空测量、膜厚测试、电控系统组成。

技术指标：

---真空度5.0×10-5pa，系统漏率：1×10-7pal/s； 恢复真空时间：40分钟可达6.6×10 pa

真空室：d形真空室，300c有机无机联合蒸发镀膜机，尺寸350× 380mm 

样品台：尺寸为4英寸厚度3mm的平面样品；

电极：数量：4支水冷结构；直径φ20㎜

样品基片:，基片在镀膜位置实现自转。基片的温度从室温至600℃

4套挡板系统：基片挡板与源挡板；靶挡板共有3套， 样品挡板（１套）

石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999? 

可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统。

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什么是蒸发镀膜？

蒸发镀膜常称真空镀膜。

其特点是在真空条件下，材料蒸发并在玻璃表面上凝结成膜，再经高温热处理后，在玻璃表面形成附着力很强的膜层。有70 多种元素、50 多种无机化合物材料和多种合金材料可供选择。pvd工艺的首要条件是在真空条件下操作，因为---以上的残余气体会影响膜的成分和性质。为了实现镀膜工艺，300c有机无机联合蒸发镀膜机供应，要求残余气体的压力为0.1～1pa。

zf350有机无机联合制备：采用3～4组蒸发源可兼容金属、有机物蒸发。广泛应用于高校材料、物理、化学、电子、能源等相关学科以及科研院所制备高功能薄膜、蒸镀电极等，300c有机无机联合蒸发镀膜机厂家，---适合opv/钙钛矿/无机薄膜太阳能电池、半导体、有机el、oled显示研究与开发领域。

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