钙钛矿镀膜设备-沈阳鹏程真空技术公司-钙钛矿镀膜设备厂

parylene裂解仪

parylene用---的真空气相沉积工艺（cvd技术）制备，由活性小分子在基材表面生长出完全敷形的聚合物薄膜涂层，它能涂敷到各种形状的表面，包括尖锐的棱边，号称无孔不入可深入裂缝里和内表面。这种真空状态下室温沉积制备的0.1-100微米薄膜涂层，厚度均匀、致密无、透明无应力、不含助剂、不损伤工件、有优异的电绝缘性和防护性，钙钛矿镀膜设备，甚至被业内称为当今的防潮、防霉（零级）、防腐、防盐雾的特殊防护涂层。parylene涂层在具备以上优异防护性能基础上，尤其还具有---的生物兼容性，生物稳定性，并有优异的自润滑性，涂层均匀可控性，以及好的物理机械性能。

1.一腔体，采用sus304不锈钢舱体有效镀膜空间 ≧ 直径300mm x 高度350mm，钙钛矿镀膜设备生产厂家，腔体设有观景窗， 采用掀盖式腔盖并设有把手以便腔盖开闭。

2. 旋转平台，可承载重量: 20公斤，钙钛矿镀膜设备厂，旋转速度: 0.5至10 rpm。

3. 油式泵浦，钙钛矿镀膜设备定做，抽气速度 ≧ 200l/min ; 压力 ≦ 5*10-3torr。

4. 控制系统，采用具pid功能之温控模块及高的精度温度传感器，系统可进行自动或半自动(温控/真空)操作，并可储存与选择recipe 。

5. 附属冷凝机，温度 ≦ -90℃

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钙钛矿镀膜机介绍

主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作，广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、oled等研究领域。钙钛矿镀膜机工作过程中样品位于真空室上方，蒸发源位于真空室下方，向上蒸发镀膜，且蒸发源带有挡板装置，防止蒸发源被污染。

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