广泛应用于高校材料、物理、化学、电子、能源等相关学科以及科研院所制备高功能薄膜、蒸镀电极等，半导体、有机el、oled显示研究与开发领域。
系统组成:
主要由真空室、蒸发源、样品台、 真空抽气及测量、膜厚测试 、电控系统组成。
技术指标：
---真空度4×10-5pa，全自动钙钛矿蒸发镀膜机，系统漏率：1.2×10-7pal/s； 恢复真空时间：40分钟可达6.0×10 pa-4
真空室：d形真空室，全自动钙钛矿蒸发镀膜机，尺寸350× 400mm
样品台：尺寸为4英寸4平面样品；
有机束源炉：数量：4支，全自动钙钛矿蒸发镀膜机公司，标准型600度控温；
样品架：安装加热炉。基片的温度从室温至600℃（硅片上表面的温度，只需标定一次即可）
4套挡板系统：动密封手动控制；
样品挡板（１套），磁力拨叉，
膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999?
主要用途：
用来生长有机材料提纯的研究工作。
系统组成: 该类设备为单室结构。
技术指标：
---真空≤610-4pa，工作压力≤2*10-3pa；
系统漏率≤6.7×10-7pal/s。
镀膜室：腔室尺寸约为φ50×350mm，石英材料，圆柱形结构。
抽气系统：采用分子泵+机械泵抽气系统；
样品可加热，加热温度为：200-600℃；
可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统
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zf300热蒸发镀膜机是专为科研院所及实验室用户群体设计开发的一款小型高真空蒸发镀膜系统。采用大抽速分子泵准无油高真空系统，全自动钙钛矿蒸发镀膜机报价，机架电控一体化设计，整体布局紧凑合理，充分考虑人机工程学的倾斜操控面板和可直观观察蒸发状态的真空室结构。两组/三组蒸发源可兼容金属、有机物蒸发。广泛应用于高校、科研院所制备功能薄膜、蒸镀电极、扫描电镜制样等，---适合太阳能电池、有机el、led显示管研究与开发领域。
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