脉冲激光沉积，是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材，生成与靶材组成相同的薄膜。pld 的---之处是能量源（脉冲激光）位于真空室的外面。这样，脉冲激光沉积装置，在材料合成时，脉冲激光沉积装置报价，工作压力的动态范围很宽，达到10-10 torr ~ 100 torr。通过控制镀膜压力和温度，可以合成一系列具有---功能的纳米结构和纳米颗粒。
另外，pld 是一种“数字”技术，在纳米尺度上进行工艺控制（a°/pulse）。
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很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧气压力（>;100 torr）下冷却是有利的。所有pioneer 系统设计的工作压力范围。从它们的额定初始压力到---压力。这也有益于纳米粒子的生成。
pioneer pld 系统的激光束入射角为45°，保持了激光密度在靶材上的均匀性，同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。浅的入射角能够拉长靶材上的激光斑点，导致密度均匀性的损失。
为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵流体，消除油的回流对薄膜的影响，所有pioneer 系统的标准配置都采用无油真空系统。
我们的研究表明靶和基片的距离是获得较佳薄膜的关键参数。pioneer 系统采用可变的靶和基片的距离，对沉积条件进行较大的控制。
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脉冲激光沉积也被称为脉冲激光烧蚀（pulsed laser ablation，pla），是一种利用激光对物体进行轰击，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜的一种手段。
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