磁控溅射沉积设备价格-磁控溅射沉积设备-沈阳鹏程

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    2020-9-15

董顺
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磁控溅射“磁控反应”介绍

磁控反应溅射绝缘体看似容易,而实际操作困难。主要问题是反应不光发生在零件表面,也发生在阳极,真空腔体表面以及靶源表面,磁控溅射沉积设备报价,从而引起灭火,靶源和工件表面起弧等。德国莱宝发明的孪生靶源技术,---的解决了这个问题。其原理是一对靶源互相为阴阳极,从而消除阳极表面氧化或氮化。冷却是一切源(磁控,多弧,离子)所必需,因为能量很大一部分转为热量,若无冷却或冷却不足,这种热量将使靶源温度达一千度以上从而溶化整个靶源。

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线列式磁控生产线

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采用---的in-line产线结构,磁控溅射沉积设备,twin-mag孪生阴极磁控溅射技术,并配以全自动控制系统、---的真空系统,可在玻璃衬底上镀制sio2、ito、azo、al、ni、ti等各类绝缘介质薄膜、金属或合金薄膜,并可连续溅镀多种不同材质的薄膜构成复合多膜层结构,磁控溅射沉积设备价格,适合---光学、电学薄膜的生产,做到一机多用具有高能效、高---性、低成本的优势。

     本产品可广泛应用于触摸屏ito镀膜、lcd显示屏ito镀膜、薄膜太阳能电池背电极及azo镀膜、彩色滤光片镀膜、电磁屏蔽玻璃镀膜、ar镀膜、装饰镀膜等产业领域。



双靶磁控溅射镀膜系统

设备用途:

用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。同时设备具有反溅射清洗功能,以提高膜的和牢固度。

设备组成

系统主要由溅射真空室、永磁磁控溅射靶(2个靶)、单基片加热台、直流电源、射频电源、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。

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