很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧气压力（>;100 torr）下冷却是有利的。所有pioneer 系统设计的工作压力范围。从它们的额定初始压力到---压力。这也有益于纳米粒子的生成。
pioneer pld 系统的激光束入射角为45°，保持了激光密度在靶材上的均匀性，同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。浅的入射角能够拉长靶材上的激光斑点，脉冲激光沉积装置多少钱，导致密度均匀性的损失。
为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵流体，消除油的回流对薄膜的影响，所有pioneer 系统的标准配置都采用无油真空系统。
我们的研究表明靶和基片的距离是获得较佳薄膜的关键参数。pioneer 系统采用可变的靶和基片的距离，对沉积条件进行较大的控制。
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脉冲激光沉积，是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材，脉冲激光沉积装置价格，生成与靶材组成相同的薄膜。pld 的---之处是能量源（脉冲激光）位于真空室的外面。这样，脉冲激光沉积装置，在材料合成时，脉冲激光沉积装置公司，工作压力的动态范围很宽，达到10-10 torr ~ 100 torr。通过控制镀膜压力和温度，可以合成一系列具有---功能的纳米结构和纳米颗粒。
另外，pld 是一种“数字”技术，在纳米尺度上进行工艺控制（a°/pulse）。
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离子辅助沉积 (ibad)系统介绍
离子辅助沉积已经成为在无规取向的基片或无定形基片上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术。neocera 开发了离子辅助的pld 系统，该系统将pld 在沉积复杂材料方面的优势与ibad 能力结合在一起。
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