多靶磁控溅射仪生产厂家-磁控溅射仪生产厂家-沈阳鹏程有限公司

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    2020-9-20

董顺
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自动磁控溅射系统概述

带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,大到6旋转平台,可支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,---真空可达10-7 torr,15分钟内可以达到10-6 torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。

带有14”立方形不锈钢腔体,4个2”的磁控管,磁控溅射仪生产厂家,dc直流和rf射频电源。 在选配方面,350 l/s涡轮分子泵,多靶磁控溅射仪生产厂家,额外的磁控管和衬底加热功能。

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自动磁控溅射系统有哪些特点?

沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售磁控溅射产品,ck300三靶磁控溅射仪生产厂家,我们为您分析该产品的以下信息。

自动磁控溅射系统产品特点:

不锈钢腔体

晶振夹具具有的<1 ?的厚度分辨率

带观察视窗的腔门易于上下的载片

基于labview软件的pc计算机控制

带密码保护功能的多级访问控制

完全的安全联锁功能

预真空锁以及自动晶圆片上/下的载片



磁控溅射介绍

以下内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供,今天我们来分享磁控溅射产品的相关内容,希望对同行业的朋友有所帮助!

用磁控靶源溅射金属和合金很容易,点火和溅射很方便。这是因为靶(阴极),等离子体和被溅零件/真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体(如陶瓷),则回路断了。于是人们采用高频电源,回路中加入很强的电容,这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。但高频磁控溅射电源昂贵,溅射速率很小,同时接地技术很复杂,因而难---采用。为解决此问题,发明了磁控反应溅射。就是用金属靶,加入气和反应气体如氮气或氧气。当金属靶材撞向零件时由于能量转化,与反应气体化合生成氮化物或氧化物。



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