脉冲激光沉积装置厂家-脉冲激光沉积装置-沈阳鹏程

脉冲激光沉积系统的配置介绍

沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售脉冲激光沉积，我们为您分析该产品的以下信息。

1.靶: 数量6个，大小1-2英寸，被激光照射时可自动旋转，靶的选择可通过步进电机控制;

2.基板:采用适合于氧气环境铂金加热片，大小2英寸，加热温度可达1200摄氏度，温度差<3%，加热时基板可旋转，工作环境的压力可达300mtorr;

3.基板加热电源，高到1200度;

4.真空成膜室腔体:不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度<5e-8 pa;

5.样品搬运室:不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，脉冲激光沉积装置，本底真空度<5e-5 pa;

6.排气系统:分子泵和干式机械泵;

7.阀门: 采用真空挡板阀;

8.真空检测:真空计;

9.气路两套: 采用气体流量计控制;

10.薄膜生长监控系统: 采用扫描型差分rheed;

11.监控系统:基板温度的监控和设定，基板和靶的旋转，靶的更换等;

12.各种电流导入及测温端子;

13.其它各种构造:各种真空位移台，脉冲激光沉积装置价格，磁力传输杆，真空法兰，脉冲激光沉积装置公司，真空密封垫圈，真空用波纹管等;

脉冲激光沉积发展前景

由脉冲激光沉积技术的原理、特点可知，它是一种---发展潜力的薄膜制备技术。随着辅助设备和工艺的进一步优化，将在半导体薄膜、超晶格、超导、生物涂层等功能薄膜的制备方面发挥重要的作用；并能加快薄膜生长机理的研究和提高薄膜的应用水平，加速材料科学和凝聚态物理学的研究进程。同时也为新型薄膜的制备提供了一种行之有效的方法。

沈阳鹏程真空技术有限责任公司本着多年脉冲激光沉积行业经验，---脉冲激光沉积研发定制与生产，---的脉冲激光沉积生产设备和技术，建立了严格的产品生产体系，想要更多的了解，欢迎咨询图片上的热线电话！！！