沈阳鹏程真空技术有限责任公司拥有---的技术，我们都以为本，信誉高，我们竭诚欢迎广大的顾客来公司洽谈业务。如果您对磁控溅射产品感兴趣，欢迎---左右两侧的在线，或拨打咨询电话。
（1）各种功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如，低温沉积氮化硅减反射膜，双靶磁控镀膜机价格，以提高太阳能电池的光电转换效率。
（2）装饰领域的应用，如各种全反射膜及半透明膜等，如手机外壳，鼠标等。
（3） 在微电子领域作为一种非热式镀膜技术，主要应用在化学气相沉积（cvd）或金属有机
（4）化学气相沉积（cvd）生长困难及不适用的材料薄膜沉积，而且可以获得大面积非常均匀的薄膜。
（5） 在光学领域：中频闭合场非平衡磁控溅射技术也已在光学薄膜（如增透膜）、低辐射玻璃和透明导电玻璃等方面得到应用。---是透明导电玻璃广泛应用于平板显示器件、太阳能电池、微波与射频屏蔽装置与器件、传感器等。
（6）在机械加工行业中，表面功能膜、超硬膜，自润滑薄膜的表面沉积技术自问世以来得到长足发展，能有效的提高表面硬度、复合韧性、耐磨损性和抗高温化学稳定性能，从而大幅度地提高涂层产品的使用寿命。
磁控溅射除上述已被大量应用的领域，还在高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜研究方面发挥重要作用。
沈阳鹏程真空技术有限责任公司——磁控溅射产品供应商，我们为您带来以下信息。
1. 溅射室---真空度：≤6.6×10-6 pa
2. 系统真空检漏漏率：≤5.0×10-7pa.l/s
3. 系统从---开始抽气：溅射室30分钟可达到6.6×10-4 pa；
4. 系统停泵关机12小时后真空度：≤5pa
5. 溅射真空室1套，立式上开盖结构，尺寸不小于ф300mm×300mm，全不锈钢结构，弧焊接，表面进行电化学抛光，内含防污内衬，可内烘烤到100～150℃，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封，腔体内有照明系统
6. 磁控溅射系统 3套， 提供3块测试靶材。镀膜不均匀度≤5%
7. 旋转基片台 1套，样品台可放置不小于100mm样品1片，具有连续旋转功能，旋转0—30转/分连续可调。基片加热温度：室温—500°c连续可调，双靶磁控镀膜机，由热电偶闭环反馈控制，加热电源配备控温表，控温方式为pid自动控温及数字显示
8. 观察窗口及法兰接口部件 1套
9. 工作气路1套，包含：100sccm、20sccm流量控制器、cf16截止阀、管路、接头等共2路； dn16充气阀、管路、接头等2路；
10. 抽气机组及阀门、管道 1套，包含1台进口复合分子泵及变频控制电源（680l/s ，双靶磁控镀膜机公司，德国普发hipace700分子泵）；1台机械泵（4l/s） ，1台dn40气动截止阀，机械泵与真空室之间的旁抽管路1套，cc150气动闸板阀1台（用于复合分子泵与真空室隔离），双靶磁控镀膜机厂家，节流阀1台，dn40旁抽气阀1台，压差式充气阀1台；管道采用不锈钢三通及波纹管，
11. 安装机台架组件 1套，由方钢型材焊接成，快卸围板表面喷塑处理，机台表面用不锈钢蒙皮装饰，四只脚轮，可固定，可移动。
设备用途：
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。同时设备具有反溅射清洗功能，以提高膜的和牢固度。
设备组成
系统主要由溅射真空室、永磁磁控溅射靶（2个靶）、单基片加热台、直流电源、射频电源、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。
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