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主要用途：
用于纳米级单层及多层金属膜、 半导体膜等新材料的制备。广泛应用 于大专院校的薄膜材料科研。
系统组成:
由真空室、蒸发源、样品台、 真空测量、膜厚测试、电控系统组成。
技术指标：
---真空度5.0×10-5pa，系统漏率：1×10-7pal/s； 恢复真空时间：40分钟可达6.6×10 pa
真空室：d形真空室，尺寸350× 380mm
样品台：尺寸为4英寸厚度3mm的平面样品；
电极：数量：4支水冷结构；直径φ20㎜
样品基片:，基片在镀膜位置实现自转。基片的温度从室温至600℃
4套挡板系统：基片挡板与源挡板；靶挡板共有3套， 样品挡板（１套）
石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999?
可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统。
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通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为热蒸发镀膜，热蒸发镀膜技术是历史悠久的pvd镀膜技术之一。热蒸发镀膜机一般主要用于蒸发cd、pb、ag、al、cu、cr、au、ni等材料。
在高真空下，采用电阻式蒸发原理，oled多源蒸发镀膜机销售，利用大电流在蒸发舟上加热所蒸镀材料，使其在高温下熔化蒸发，从而在样品上沉积所需要的薄膜。通过调节所加电流的大小，可以方便的控制镀膜材料的蒸发速率。通常适合熔点低于1500oc的金属薄膜的制备。
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结构和特点：结构可为立卧式双开门结构，成膜速率快，oled多源蒸发镀膜机生产厂家，色泽鲜亮，膜层不易受污染，可获得致密性好、纯度高、膜厚均匀的膜层，不产生废液、废水，oled多源蒸发镀膜机多少钱，可避免对环境污染，属设备。
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