? 高温石英管反应器设计
? 温度范围：室温到1100度
? 多路气体准确控制
? 标准气压计
? 易于操作
? 可配机械泵实现低压tcvd
? 可用于制备金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜
? 液体前驱体喷头
沈阳鹏程真空技术有限责任公司本着多年化学气相沉积行业经验，---化学气相沉积研发定制与生产，---的化学气相沉积生产设备和技术，建立了严格的产品生产体系，想要更多的了解，气相化学沉积设备报价，欢迎咨询图片上的热线电话！！！
该系统为单室薄膜太阳电池等离子增强化学气相沉积（pecvd）工艺研发设备，用来在硅片上沉积siox、sinx、非晶硅、多晶硅、碳材料等薄膜，镀膜样品为156×156mm基片（并向下兼容）。
设备概述：
1.系统采用单室方箱式结构，手动前开门；
2.真空室:尺寸为350mm×350×280mm；
3.---真空度：≤6.67x10-4 pa (经烘烤除气后，采用分子泵抽气)；
系统真空检漏漏率：≤5.0x10-7pa.l/s； 系统从---开始抽气到5.0x10-3 pa，35分钟可达到
（采用分子泵抽气，分子泵不配，预留分子泵接口)； 停泵关机12小时后真空度：≤5 pa（采用分子
泵抽气，分子泵不配，预留分子泵接口)；
4.采用样品在下，喷淋头在上喷淋式进气方式；
5.样品加热加热温度：300℃，温控精度：±1°c，采用日本进口控温表进行控温；
6.喷淋头尺寸：200×200mm，气相化学沉积设备公司，喷淋头与样品之间电极间距20-80mm连续可调；
7. 沉积工作真空：13-1300pa；
8.气路设有匀气系统，真空室内设有---抽气均匀性抽气装置；
9.射频电源：频率 13.56mhz，功率500w，全自动匹配；
10.sih4、nh3、co2、n2、h2、ph3、b2h6、七路气体，气相化学沉积设备，共计使用7个流量控制器控制进气。
11. 系统设有尾气处理系统(高温裂解方式)。
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现代科学和技术需要使用大量功能各异的无机新材料，这些功能材料必须是高纯的，气相化学沉积设备价格，或者是在高纯材料中有意地掺入某种杂质形成的掺杂材料。但是，我们过去所熟悉的许多制备方法如高温熔炼、水溶液中沉淀和结晶等往往难以满足这些要求，也难以---得到高纯度的产品。因此，无机新材料的合成就成为现代材料科学中的主要课题。
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