单靶磁控溅射仪-沈阳鹏程有限公司-单靶磁控溅射仪

磁控溅射介绍

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用磁控靶源溅射金属和合金很容易，点火和溅射很方便。这是因为靶（阴极），等离子体和被溅零件/真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体（如陶瓷），则回路断了。于是人们采用高频电源，回路中加入很强的电容，这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。但高频磁控溅射电源昂贵，溅射速率很小，同时接地技术很复杂，因而难---采用。为解决此问题，发明了磁控反应溅射。就是用金属靶，加入气和反应气体如氮气或氧气。当金属靶材撞向零件时由于能量转化，单靶磁控溅射仪报价，与反应气体化合生成氮化物或氧化物。

线列式磁控生产线

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采用---的in-line产线结构，twin-mag孪生阴极磁控溅射技术，并配以全自动控制系统、---的真空系统，可在玻璃衬底上镀制sio2、ito、azo、al、ni、ti等各类绝缘介质薄膜、金属或合金薄膜，并可连续溅镀多种不同材质的薄膜构成复合多膜层结构，适合---光学、电学薄膜的生产，做到一机多用具有高能效、高---性、低成本的优势。

     本产品可广泛应用于触摸屏ito镀膜、lcd显示屏ito镀膜、薄膜太阳能电池背电极及azo镀膜、彩色滤光片镀膜、电磁屏蔽玻璃镀膜、ar镀膜、装饰镀膜等产业领域。