化学气相沉积的方法很多,如常压化学气相沉积(atmospheric pressure cvd,apcvd)、低压化学气相沉积(low pressure cvd,lpcvd)、真空化学气相沉积(ultrahigh vacuum cvd,uhvcvd)、激光化学气相沉积(laser cvd,lcvd)、金属有机物化学气相沉积(metal-organic cvd,mocvd),进口化学气相沉积设备,等离子体增强化学气相沉积(plasma enhanced cvd,进口化学气相沉积设备价格,pecvd)等。
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化学气相沉积技术是应用气态物质在固体上产生化学反应和传输反应等并产生固态沉积物的一种工艺,进口化学气相沉积设备多少钱,它大致包含三步:
(1)形成挥发性物质 ;
(2)把上述物质转移至沉积区域 ;
(3)在固体上产生化学反应并产生固态物质 。基本的化学气相沉积反应包括热分解反应、化学合成反应以及化学传输反应等集中。
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化学气相沉积法生产金属铱高温涂层从20世纪80年代起,nasa 开始尝试使用金属有机化合物化学气相沉积法制取出使用铼基铱作为涂层的复合喷管,并获得了成功,这时化学气相沉积法在生产金属涂层领域才有了一定程度上的突破。
nasa 使用了c15h21iro6作为制取铱涂层的材料,进口化学气相沉积设备厂家,并利用 c15h21iro6的热分解反应进行沉积。铱的沉积速度很快,可以达到3~20μm/h。 沉积厚度也达到了50μm,c15h21iro6的制取效率达 70%以上。
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