脉冲激光沉积，是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材，生成与靶材组成相同的薄膜。pld 的---之处是能量源（脉冲激光）位于真空室的外面。这样，在材料合成时，工作压力的动态范围很宽，达到10-10 torr ~ 100 torr。通过控制镀膜压力和温度，可以合成一系列具有---功能的纳米结构和纳米颗粒。
另外，脉冲激光沉积设备，pld 是一种“数字”技术，在纳米尺度上进行工艺控制（a°/pulse）。
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脉冲激光沉积系统配置：
生长室，脉冲激光沉积设备多少钱，进样室可选水平、垂直两种靶台可选激光加热和辐射加热两种样品台可选，激光加热高的温度1200℃工艺气路可以任意搭配配备高压rheed，工作气压可达100pa可预留法兰，用于leed，脉冲激光沉积设备报价，k-cell， e-beam等其它可选项如臭氧发生器，离子源，掩膜系统等。
离子辅助沉积 (ibad)系统介绍
离子辅助沉积已经成为在无规取向的基片或无定形基片上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术。neocera 开发了离子辅助的pld 系统，该系统将pld 在沉积复杂材料方面的优势与ibad 能力结合在一起。
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