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是比较理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2d材料。blue wave还提供相关系统配件，例如基片加热装置、原位监测工具。此外，脉冲激光沉积装置公司，bluewave还为您提供标准的薄膜以及材料涂层，例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶si/sic、晶体aln-gan、聚合物、纳米钻石、hfcvd钻石涂层以及器件加工。
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连续组成扩展(ccs )
常规沉积条件下的组合合成
组合合成是一种基于脉冲激光沉积的、组合材料合成的新型连续组成扩展(ccs) 方法。pld-ccs 系统能以连续的方式改变材料，没有---使用掩模。可以在每一次循环中，以小于一个单分子层的速率，快速连续沉积每一种组份，其结果是基本等同于共沉积法。该法无需在沉积后进行退火促进内部扩散或结晶，脉冲激光沉积装置，对于生长温度是关键参数的研究或者被沉积的材料或基片不适合高温退火的情况是有用的。
激光分子束外延(laser mbe )
激光mbe 是普遍采用的术语，该法是一种纳米尺度薄膜合成的理想方法，高真空下的pld 与在线工艺监测的反射高能电子衍射（rheed）的联合应用，用户提供了类似于mbe 的薄膜生长的单分子水平控制。
正确的设计是成功使用rheed 和pld 的重要因数
rheed 通常在高真空（<10-6 torr）环境下使用。然而，因为在某些特殊情况下，pld 采用较高的压力，差动抽气是---的，脉冲激光沉积装置报价，
维持rheed 枪的工作压力，同时保持500 mtorr 的pld 工艺压力。同时，设计完整的系统消除磁场对电子束的影响是---的。neocera 的激光mbe 系统可以为用户提供在压力达到500 mtorr 时所需的单分子层控制。
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