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化学气相沉积技术是应用气态物质在固体上产生化学反应和传输反应等并产生固态沉积物的一种工艺，气相化学沉积设备价格，它大致包含三步：
（1）形成挥发性物质 ；
（2）把上述物质转移至沉积区域 ；
（3）在固体上产生化学反应并产生固态物质 。基本的化学气相沉积反应包括热分解反应、化学合成反应以及化学传输反应等集中。
? 高温石英管反应器设计
? 温度范围：室温到1100度
? 多路气体准确控制
? 标准气压计
? 易于操作
? 可配机械泵实现低压tcvd
? 可用于制备金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜
? 液体前驱体喷头
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化学气相沉积的方法很多，如常压化学气相沉积(atmospheric pressure cvd，气相化学沉积设备，apcvd)、低压化学气相沉积(low pressure cvd，lpcvd)、真空化学气相沉积(ultrahigh vacuum cvd，uhvcvd)、激光化学气相沉积(laser cvd，lcvd)、金属有机物化学气相沉积(metal-organic cvd，mocvd)，等离子体增强化学气相沉积（plasma enhanced cvd，pecvd）等。
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