化学气相沉积设备-化学气相沉积设备厂家-沈阳鹏程(商家)

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    2020-10-29

董顺
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化学气相沉积的特点

化学气相沉积法之所以得到发展,是和它本身的特点分不开的,其特点如下。

i) 沉积物种类多: 可以沉积金属薄膜、非金属薄膜,也可以按要求制备多组分合金的薄膜,以及陶瓷或化合物层。

2) cvd反应在常压或低真空进行,镀膜的绕射性好,化学气相沉积设备,对于形状复杂的表面或工件的深孔、细孔都能均匀镀覆。

3) 能得到纯度高、致密性好、残余应力小、结晶---的薄膜镀层。由于反应气体、反应产物和基体的相互扩散,可以得到附着力好的膜层,这对表面钝化、抗蚀及耐磨等表面增强膜是很重要的。

4) 由于薄膜生长的温度比膜材料的熔点低得多,由此可以得到纯度高、结晶完全的膜层,这是有些半导体膜层所必须的。

5) 利用调节沉积的参数,可以有效地控制覆层的化学成分、形貌、晶体结构和晶粒度等。

6) 设备简单、操作维修方便。

7) 反应温度太高,一般要850~ 1100℃下进行,许多基体材料都耐受不住cvd的高温。采用等离子或激光辅助技术可以降低沉积温度。

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化学气相沉积的特点有哪些?

?  高温石英管反应器设计

?  温度范围:室温到1100度

?  多路气体准确控制

?  标准气压计

?  易于操作

?  可配机械泵实现低压tcvd

?  可用于制备金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜

?  液体前驱体喷头

沈阳鹏程真空技术有限责任公司本着多年化学气相沉积行业经验,化学气相沉积设备公司,---化学气相沉积研发定制与生产,---的化学气相沉积生产设备和技术,建立了严格的产品生产体系,想要更多的了解,欢迎咨询图片上的热线电话!!!



等离子体化学气相沉积

沈阳鹏程真空技术有限责任公司——脉冲激光沉积供应商,我们为您带来以下信息。

等离子体化学气相沉积简称pcvd,是一种用等离子体激发反应气体,化学气相沉积设备,促进在基体表面或近表面空间进行化学反应,生成固态膜的技术。等离子体化学气相沉积技术的基本原理是在高频或直流电场作用下,化学气相沉积设备厂家,源气体电离形成等离子体,利用低温等离子体作为能量源,通入适量的反应气体,利用等离子体放电,使反应气体激发并实现化学气相沉积的技术。



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