1、样品位于真空室上方,蒸发源位于真空室下方,向上蒸发镀膜,且蒸发源带有挡板装置。
2、设有烘烤加热功能,可在镀膜过程中加热样品,烘烤加热温度为≤180℃。
3、设有断水、断电连锁保护报警装置及防误操作保护报警装置。
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设备用途 :
适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等,可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作,也可用于大批量生产前的试验工作。广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、oled等研究领域
设备组成:
1、镀膜室:方形前后开门结构,内带有防污板。
2、
4、样品架系统:
5、样品在镀膜过程中,可烘烤加热,钙钛矿热蒸发镀膜机价格,加热温度为:室温~190℃,测温控温。
6、膜厚控制仪:测量范围0-999999?
结构和特点:结构可为立卧式双开门结构,钙钛矿热蒸发镀膜机定做,成膜速率快,色泽鲜亮,膜层不易受污染,钙钛矿热蒸发镀膜机厂,可获得致密性好、纯度高、膜厚均匀的膜层,不产生废液、废水,可避免对环境污染,属设备。
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