脉冲激光沉积装置厂家-沈阳鹏程-脉冲激光沉积装置

pld450型脉冲激光镀膜介绍

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技术指标：

---真空度：≤6.7×10 pa　　

恢复真空时间：从1×10 pa抽至5×10 pa≤20min　　

系统漏率：6. 7×10-7pa.l/s；　　

真空室：ф450球型真空室 ，　　

基片尺寸：可放置4″可实现公转换靶位描等基片加热可连续回转，转速5-60转/分基片与蒸发源之间距离300-350mm可调。　　

二维扫描机械平台，执行两自由度扫描，控制的内容主要有公转换靶、靶自转、样品自转、样品控温、激光束扫，脉冲激光沉积装置厂家，

流量控制器1路　　

烘烤温度：150℃数显自动热偶控温（高温炉盘，数显自动热偶控温可加热到800℃）

脉冲激光沉积介绍

脉冲激光沉积，脉冲激光沉积装置报价，是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材，生成与靶材组成相同的薄膜。pld 的---之处是能量源（脉冲激光）位于真空室的外面。这样，在材料合成时，工作压力的动态范围很宽，达到10-10 torr ~ 100 torr。通过控制镀膜压力和温度，可以合成一系列具有---功能的纳米结构和纳米颗粒。

另外，pld 是一种“数字”技术，在纳米尺度上进行工艺控制（a°/pulse）。

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