主要用途:
用于制备导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等,批量生产型。
系统组成:
系统主要由蒸发真空室、e型电子枪、热蒸发电极、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、计算机系统及安装机台等部分组成。
技术指标:
---真空度:≤6.7×10 pa 恢复真空时间:从1×10 pa抽至5×10 pa≤20min
系统漏率:6. 7×10-7pa.l/s;
真空室:真空室1200x9000 x800mm采用u型箱体前开门,电子束蒸发镀膜机,后置抽气系统
e型电子枪:阳极电压:10kv(2套) 坩埚:水冷式坩埚,24穴设计,每个容量11ml
功率:0-10kw可调 电阻蒸发源(可选)
基片尺寸:可放置4″基片一次更换20个样品
样品台:基片可连续回转,电子束蒸发镀膜机公司,转速5-60转/分基片与蒸发源之间距离350mm加热温度 400°c±1°c
气路系统:流量控制器1路
石英晶振膜厚控制仪:监测膜厚显---围:0-99μ9999?
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电子枪蒸发是到目前为止应用较多的一种蒸发方式,它可以蒸发任何一种镀膜材料,它的工作方式是:将镀膜材料放在坩埚里面,将蒸发源制作成灯丝形状,采用一专门的控制柜,对灯丝加一强电流,高电压,由于灯丝的材料是钨,所以它会---,然后会发射电子,再采用一定的磁场将其---成一定形状,并牵引到坩埚上,这样就形成了一股电子束,由于电子束温度非常高,可以熔化任何镀膜药材,当镀膜药材被电子束熔化后(有些材料是直接升华),药材的分子(原子或者离子)在真空中成直线运动,贵阳电子束蒸发镀膜机,然后遇到基板,就凝结下来,经过这种方式生长,形成薄膜!
常用的有将电子束的偏转角制作成270度,、或者运行轨迹为e型的e行电子枪或者电子束偏转角180度,运行轨迹为c型的c型电子枪两种。
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电子在电场中会受力而得到加速、提高能量,产生电子束。电子束焊原理一台电子增速器,电子束蒸发镀膜机报价,注入的电子能量为20gev(1gev=109 ev,也就是10亿电子伏特),相应的电子速度为0.99999999979倍---。电子经增速器加速后,能量可达到100gev,电子速度达到0.999999999987倍的---。这说明,电子在这台增速器里速度几乎没有增加,而能量增加了4倍。
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